王爽,白杉,徐平,周渊名,郭雅尘,王树英,张腾月,梁雪松,洪梅.辉光放电质谱法在高纯材料分析中的应用[J].中国无机分析化学,2019,9(2):24-34.
辉光放电质谱法在高纯材料分析中的应用
Application of GDMS for High Purity Materials
投稿时间:2018-11-21  修订日期:2019-01-03
DOI:doi:10.3969/j.issn.2095-1035.2019.02.007
中文关键词:  辉光放电质谱法 高纯金属 高纯半导体
英文关键词:GDMS, high purity metal, high purity semiconductor
基金项目:国家自然科学基金项目(面上项目,重点项目,重大项目)
                          
作者单位
王爽 锦州市产品质量监督检验所/国家光伏材料质量监督检验中心
白杉 北京大学深圳研究生院
徐平 锦州市产品质量监督检验所/国家光伏材料质量监督检验中心
周渊名 锦州市产品质量监督检验所/国家光伏材料质量监督检验中心
郭雅尘 锦州市产品质量监督检验所 国家光伏材料质量监督检验中心
王树英 锦州市产品质量监督检验所/国家光伏材料质量监督检验中心
张腾月 锦州市产品质量监督检验所
梁雪松 锦州市产品质量监督检验所
洪梅 北京大学深圳研究生院
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中文摘要:
      高纯材料是现代高新技术发展的基础,在电子、光学和光电子等尖端科学领域发挥着重要作用。辉光放电质谱法(GDMS)作为一种固体样品直接分析技术,已广泛应用于高纯金属、高纯半导体材料的痕量和超痕量杂质分析。内容综述了GDMS法对高纯金属、高纯半导体材料进行的元素分析,并对分析过程中工作参数、溅射时间、干扰峰等因素的影响进行了阐述。同时,也总结了应用GDMS法对高纯金属钛、镉,高纯半导体硅, 分别进行的痕量杂质元素分析,结果显示放电稳定性良好,典型元素含量的相对标准偏差均在较为理想范围内。
英文摘要:
      High purity material is the basis of modern high technology development, and plays an important role in the fields of electronics, optics and optoelectronics. Glow discharge mass spectrometry (GDMS) as a solid sample direct analysis technique is an important method for high purity material analysis, and it has been widely used to trace and ultra-trace analysis impurities in high purity metal and high purity semiconductor materials. This paper reviewed the element analysis of high purity metal and high purity semiconductor material by GDMS, and the influences of working parameters, sputtering time and interference peak. It summarized that the trace impurity elements analysis of high purity titanium, cadmium, high purity silicon by GDMS. Results showed good discharge stability and typical elements relative standard deviation in the ideal range.
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